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L'oxyde d'étain indium
L'oxyde d'indium et d'étain (ITO) est un oxyde conducteur transparent largement utilisé dans diverses industries en raison de ses propriétés uniques. C'est un mélange d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain dans des proportions variables, généralement avec un rapport de 90:10 ou 95:5. L'ITO est un matériau transparent et incolore avec une conductivité électrique élevée et est optiquement transparent dans la gamme visible du spectre électromagnétique.
Caractéristiques
L'oxyde d'indium et d'étain (ITO) est un oxyde conducteur transparent largement utilisé dans diverses industries en raison de ses propriétés uniques. C'est un mélange d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain dans des proportions variables, généralement avec un rapport de 90:10 ou 95:5. L'ITO est un matériau transparent et incolore avec une conductivité électrique élevée et est optiquement transparent dans la gamme visible du spectre électromagnétique.
Caractéristiques:
Les principales caractéristiques de l'ITO sont sa conductivité électrique élevée, sa transparence optique et son excellente stabilité mécanique et chimique. C'est un excellent conducteur d'électricité et peut être utilisé pour créer des revêtements conducteurs transparents pour une large gamme d'applications. L'ITO a également une excellente stabilité thermique, ce qui le rend adapté à une utilisation dans des applications à haute température.
Notes :
L'ITO est disponible en différentes qualités en fonction de l'application. Les grades les plus courants sont l'ITO de haute pureté, le nano-ITO et l'ITO de faible résistance. L'ITO de haute pureté est utilisé pour les applications nécessitant une transparence élevée, tandis que le nano-ITO est utilisé pour les applications nécessitant une conductivité élevée. L'ITO à faible résistance est utilisé pour les applications nécessitant une conductivité élevée et une faible résistance.
Formes:
L'ITO est disponible sous différentes formes, y compris les films minces, les cibles de pulvérisation et la poudre. Les couches minces sont la forme d'ITO la plus couramment utilisée et sont utilisées pour des applications telles que les écrans tactiles et les écrans plats. Les cibles de pulvérisation sont utilisées pour produire des revêtements ITO sur du verre et d'autres substrats. La poudre ITO est utilisée pour les applications nécessitant la création de revêtements personnalisés.
Spécifications des couches minces ITO :
● Épaisseur : L'épaisseur des couches minces d'ITO varie en fonction de l'application, mais varie généralement de quelques nanomètres à quelques micromètres.
● Résistance de feuille : la résistance de feuille des films minces ITO est généralement de l'ordre de 10-500 ohms/carré.
● Transmission optique : les films minces ITO ont une transparence optique élevée dans la plage visible du spectre électromagnétique, généralement supérieure à 80 %.
Spécifications des cibles de pulvérisation ITO :
● Pureté : les cibles de pulvérisation ITO sont disponibles dans des degrés de pureté élevés allant de 99,9 % à 99,999 % de pureté.
● Forme et taille : les cibles de pulvérisation ITO sont disponibles en différentes formes et tailles, y compris des disques, des plaques rectangulaires et des formes personnalisées.
● Densité : La densité des cibles de pulvérisation ITO varie généralement de 6,6 à 7,2 g/cm3.
Spécifications de la poudre ITO :
● Pureté : la poudre d'ITO est disponible dans des degrés de pureté élevés allant de 99,9 % à 99,999 % de pureté.
● Taille des particules : la poudre d'ITO est disponible en différentes tailles de particules, généralement comprises entre 0, 5 et 5 microns.
● Surface spécifique : La surface spécifique de la poudre d'ITO est généralement comprise entre 5 et 50 m2/g.
Méthode de production:
L'ITO est généralement produit par pulvérisation cathodique ou évaporation par faisceau d'électrons. Lors de la pulvérisation cathodique, une cible constituée d'indium et d'étain est bombardée d'ions, libérant des atomes qui se déposent sur un substrat pour former un film d'ITO. Dans l'évaporation par faisceau d'électrons, une cible est chauffée et évaporée sous vide, et la vapeur résultante se dépose sur un substrat pour former un film d'ITO.
Applications et industries connexes :
L'ITO est utilisé dans une large gamme d'applications, notamment les écrans tactiles, les écrans plats, les cellules solaires et les appareils électroniques. Il est également utilisé dans l'industrie automobile pour l'antibuée et le dégivrage des vitres. Les autres industries qui utilisent l'ITO comprennent l'aérospatiale, l'armée et les télécommunications.
Informations sur la santé et la sécurité :
L'ITO est généralement sûr à manipuler, mais il est important de suivre les précautions de sécurité appropriées lorsque vous travaillez avec. Il est recommandé de porter des gants, une blouse de laboratoire et des lunettes de sécurité lors de la manipulation de l'ITO. De plus, l'ITO doit être manipulé dans un endroit bien ventilé pour éviter l'inhalation de poussière.
Nos avantages:
Nous sommes l'un des principaux fabricants d'ITO et nos produits sont de la plus haute qualité. Nous utilisons les dernières techniques de production pour nous assurer que notre ITO est constant en termes de qualité et de pureté. De plus, nous avons une équipe de professionnels expérimentés qui se consacrent à fournir à nos clients le meilleur service et le meilleur support possible.
FAQ :
Q : Quelle est l'épaisseur des films minces ITO ?
R : L'épaisseur des couches minces d'ITO varie en fonction de l'application, mais varie généralement de quelques nanomètres à quelques micromètres.
Q : Quel est l'indice de réfraction de l'ITO ?
R : L'indice de réfraction de l'ITO est d'environ 2.0 dans la plage visible du spectre électromagnétique.
Q : Les revêtements ITO peuvent-ils être modelés ?
R : Oui, les revêtements ITO peuvent être modelés à l'aide de diverses techniques telles que la photolithographie et la gravure.
Q : Quelle est la différence entre la pulvérisation cathodique et l'évaporation par faisceau d'électrons ?
R : La pulvérisation consiste à bombarder une cible avec des ions, tandis que l'évaporation par faisceau d'électrons consiste à chauffer une cible et à évaporer le matériau sous vide. Les deux méthodes sont utilisées pour déposer des couches minces sur un substrat.
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