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Oxyde de zinc et d'indium

Oxyde de zinc et d'indium

L'oxyde de zinc et d'indium (IZO) est un oxyde conducteur transparent (TCO) composé d'oxyde d'indium, d'oxyde de zinc et d'éléments dopants. C'est un matériau hautement transparent qui a une excellente conductivité électrique et est couramment utilisé comme substitut de l'oxyde d'indium et d'étain (ITO) dans diverses applications électroniques.

Caractéristiques

L'oxyde de zinc et d'indium (IZO) est un oxyde conducteur transparent (TCO) composé d'oxyde d'indium, d'oxyde de zinc et d'éléments dopants. C'est un matériau hautement transparent qui a une excellente conductivité électrique et est couramment utilisé comme substitut de l'oxyde d'indium et d'étain (ITO) dans diverses applications électroniques.

Caractéristiques:

● Haute conductivité électrique

● Haute transparence

● Excellente stabilité dans diverses conditions environnementales

● Faible résistance

● Concentrations de dopant personnalisables

● Compatible avec diverses techniques de dépôt

Notes :

● Pureté : 99,99 %

● Composition : In2O3:ZnO (90:10, 95:5, 97:3)

● Concentrations de dopant personnalisables

Formes:

● Sputtering targets (Density: >6.0 g/cm³, Granulométrie :<100 µm, Surface finish: Ra ≤ 0.8 µm, Dimensions: Customizable based on customer requirements)

● Poudre (taille des particules :<5 µm, <10 µm, <20 µm, or customizable based on customer requirements, Specific surface area: 5-15 m²/g)

● Films fins (épaisseur : 50-300 nm, personnalisable en fonction des exigences du client, résistance de feuille :<15Ω/sq, Transmittance: >80 % à 550 nm, techniques de dépôt compatibles : pulvérisation cathodique, évaporation par faisceau d'électrons, dépôt par laser pulsé et autres techniques de dépôt en couches minces)

● Formes et tailles personnalisables

Méthode de production:

L'oxyde de zinc et d'indium est généralement produit par un processus de pulvérisation, dans lequel de l'oxyde d'indium, de l'oxyde de zinc et des éléments dopants sont co-pulvérisés sur un substrat. Le film IZO résultant peut ensuite être recuit pour améliorer ses propriétés électriques et optiques.

Applications et industries connexes :

● Écrans plats

● Écrans tactiles

● Cellules solaires

● Diodes électroluminescentes organiques (OLED)

● Transistors à couches minces (TFT)

● Fenêtres intelligentes

● Écrans automobiles

● Affichages aérospatiaux

● Dispositifs médicaux

● Autres applications électroniques

Informations sur la santé et la sécurité :

L'oxyde de zinc et d'indium est généralement considéré comme sûr pour la manipulation et l'utilisation dans les applications électroniques. Cependant, il est important de suivre les précautions de sécurité appropriées lors de la manipulation de la poudre IZO ou des cibles de pulvérisation. Ces précautions comprennent le port de vêtements de protection, de gants et de lunettes de protection appropriés, et le fait d'éviter l'ingestion ou l'inhalation du matériau.

Nos avantages:

● Concentrations de dopant personnalisables

● Large gamme de formes et de tailles

● Prix compétitifs

● Produits de haute qualité avec des performances constantes

● Délais de livraison rapides

● Service client réactif

FAQ :

Q : L'oxyde de zinc et d'indium peut-il être utilisé comme substitut de l'oxyde d'étain et d'indium ?

R : Oui, l'IZO est couramment utilisé comme substitut de l'ITO dans diverses applications électroniques en raison de sa conductivité électrique élevée et de sa transparence.

Q : Quelle est l'épaisseur typique des couches minces IZO ?

R : L'épaisseur des films minces IZO peut varier en fonction de l'application spécifique et des exigences du client. Il se situe généralement dans la plage de 50-300 nm.

Q : Quelles techniques de dépôt sont compatibles avec IZO ?

R : L'IZO peut être déposé à l'aide de diverses techniques, notamment la pulvérisation cathodique, l'évaporation par faisceau d'électrons et le dépôt par laser pulsé. La technique spécifique utilisée dépendra des exigences du client et de l'application spécifique.

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